નીચેના પૈકી કઈ ઇલેક્ટ્રોન રચના માટે આયનીકરણ એ | vedclass

Name: Exam Paper Generator | JEE NEET Paper Generator | Vedclass
Brand: Vedclass
Rating: 5 (35 reviews)

Question

(C) આવર્તમાં ડાબેથી જમણે જતાં અસરકારક કેન્દ્રીય વીજભાર વધવાને કારણે આયનીકરણ એન્થાલ્પી સામાન્ય રીતે વધે છે.જોકે,ઇલેક્ટ્રોન રચનાની સ્થિરતા મહત્વનો ભાગ ભ

Vedclass · Accepted Answer

$[Ne]\, 3s^2\, 3p^5$

Vedclass · Answer

(C) આવર્તમાં ડાબેથી જમણે જતાં અસરકારક કેન્દ્રીય વીજભાર વધવાને કારણે આયનીકરણ એન્થાલ્પી સામાન્ય રીતે વધે છે.જોકે,ઇલેક્ટ્રોન રચનાની સ્થિરતા મહત્વનો ભાગ ભજવે છે.વિકલ્પ $A$ $([Ne]\, 3s^2\, 3p^3)$ અર્ધ-પૂર્ણ $p$-કક્ષક દર્શાવે છે,જે ખૂબ જ સ્થિર છે.વિકલ્પ $D$ $([Ne]\, 3s^2)$ પૂર્ણ ભરાયેલી $s$-કક્ષક દર્શાવે છે.સમાન આવર્ત ($3$જો આવર્ત) માં રહેલા તત્વોની સરખામણી કરતા: $3s^2$ (મેગ્નેશિયમ),$3s^2\, 3p^3$ (ફોસ્ફરસ),$3s^2\, 3p^4$ (સલ્ફર),અને $3s^2\, 3p^5$ (ક્લોરિન).ક્લોરિન $(3s^2\, 3p^5)$ નો અસરકારક કેન્દ્રીય વીજભાર સૌથી વધુ હોવાથી તેમાંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવો સૌથી મુશ્કેલ છે.તેથી,$[Ne]\, 3s^2\, 3p^5$ ની આયનીકરણ એન્થાલ્પી સૌથી વધુ છે.

$(IP)_1$	$7.1 \ eV$
$(IP)_2$	$10.3 \ eV$
$(IP)_3$	$36.2 \ eV$
$(IP)_4$	$39.1 \ eV$

નીચેના પૈકી કઈ ઇલેક્ટ્રોન રચના માટે આયનીકરણ એન્થાલ્પી સૌથી વધુ છે?

Similar Questions

એક તત્વ માટે આયનીકરણ પોટેન્શિયલ $(IP)$ ના મૂલ્યો નીચે મુજબ છે. તત્વને ઓળખો:
$(IP)_1$ $7.1 \ eV$
$(IP)_2$ $10.3 \ eV$
$(IP)_3$ $36.2 \ eV$
$(IP)_4$ $39.1 \ eV$

આયનીકરણ એન્થાલ્પીના સંદર્ભમાં નીચેનામાંથી કયું વિધાન ખોટું છે?

દરેક આવર્તમાં,આલ્કલી ધાતુઓ...

નીચેનામાંથી કયા તત્વમાં સૌથી વધુ ધાતુ ગુણધર્મ છે?
તત્વ $- IP$

$Li$ અને $K$ ની આયનીકરણ એન્થાલ્પી અનુક્રમે $5.4 \ eV$ અને $4.3 \ eV$ છે. $Na$ ની આયનીકરણ એન્થાલ્પી ................ $eV$ હશે.

Vedclass Test Series

Exam Paper Generator

Online Exam Module