કોઈ તત્વની બીજી ઇલેક્ટ્રોન બંધુતા ...

$O \rightarrow O^{-}$ અને $O \rightarrow O^{2-}$ માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીના મૂલ્યો અનુક્રમે $-141 \ kJ \ mol^{-1}$ અને $702 \ kJ \ mol^{-1}$ છે,તો તમે $O^{-}$ ને બદલે $O^{2-}$ સ્પીસીઝ ધરાવતા મોટી સંખ્યામાં ઓક્સાઇડના નિર્માણ માટે શું કારણ આપી શકો?
(સૂચન: સંયોજનોના નિર્માણમાં લેટીસ ઉર્જાના પરિબળને ધ્યાનમાં લો).

ઓક્સાઇડ આયન $O^{2-}_{(g)}$ ના નિર્માણ માટે નીચે દર્શાવ્યા મુજબ પહેલા ઉષ્માક્ષેપક અને પછી ઉષ્માશોષક તબક્કાની જરૂર પડે છે:
$O_{(g)} + e^{-} \to O^{-}_{(g)}; \Delta H = -142 \, kJ \, mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^{-} \to O^{2-}_{(g)}; \Delta H = 844 \, kJ \, mol^{-1}$
આનું કારણ શું છે?

આપેલ તત્વો માટે ઈલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (ઋણ ચિહન સાથે) નો સાચો ક્રમ નીચેનામાંથી કયો છે?

$O$ ની બીજી ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી પ્રથમ કરતા ધન,વધુ ઋણ કે ઓછી ઋણ હશે? તમારા જવાબનું સમર્થન કરો.

ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી $\left( \Delta_{eg} H \right)$ એટલે શું? તેનું મૂલ્ય ક્યારે ધન અને ઋણ બને છે?