નીચે આપેલી તત્ત્વોની દરેક જોડીમાં કયું તત્ત્વ વધુ ઋણ ઇલેક્ટ્રોનપ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી ધરાવે છે?
$(i)$ $O$ અથવા $F$ $(ii)$ $F$ અથવા $Cl$

નીચેની પ્રક્રિયા માટે $\Delta H$ નું મૂલ્ય શું હશે?
$X_{(g)} + e^- \to X^-_{(g)}$

$O \rightarrow O^{-}$ અને $O \rightarrow O^{2-}$ માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીના મૂલ્યો અનુક્રમે $-141 \ kJ \ mol^{-1}$ અને $702 \ kJ \ mol^{-1}$ છે,તો તમે $O^{-}$ ને બદલે $O^{2-}$ સ્પીસીઝ ધરાવતા મોટી સંખ્યામાં ઓક્સાઇડના નિર્માણ માટે શું કારણ આપી શકો?
(સૂચન: સંયોજનોના નિર્માણમાં લેટીસ ઉર્જાના પરિબળને ધ્યાનમાં લો).

હેલોજનની ઈલેક્ટ્રોન એફીનીટી (ઈલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી) માટે નીચેનામાંથી શું સાચું છે?

$F$ અને $Cl$,$S$ અને $Se$,તથા $Li$ અને $Na$ તત્વોની જોડીમાં,ઇલેક્ટ્રોન મેળવતી વખતે કયા તત્વો વધુ ઉર્જા મુક્ત કરે છે?

હેલોજનની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી $F = 322$,$Cl = 349$,$Br = 324$,$I = 295 \ kJ \ mol^{-1}$ છે. $F$ ની સરખામણીમાં $Cl$ માટેનું ઉચ્ચ મૂલ્ય શેના કારણે છે?