નીચેનામાંથી કયો પદાર્થ સૌથી વધુ બાષ્પશીલ છે?

સંયોજન $Z$ ની વિવિધ હેલોજન સાથે યોગ્ય પરિસ્થિતિઓમાં પ્રતિક્રિયા નીચે મુજબ છે:
(પ્રતિક્રિયાની છબી: $Z$ ($3$-tert-butylphenol) $X_2$ સાથે પ્રક્રિયા કરીને $X_2 = I_2$ માટે મોનો-હેલો વ્યુત્પન્ન,$X_2 = Br_2$ માટે ડાય-હેલો અને $X_2 = Cl_2$ માટે ટ્રાય-હેલો વ્યુત્પન્ન આપે છે)
ઇલેક્ટ્રોફિલિક વિસ્થાપનની અવલોકન કરેલ પેટર્ન નીચેના દ્વારા સમજાવી શકાય છે:
$A$. હેલોજનની અવકાશી અસર (steric effect)
$B$. tert-butyl ગ્રુપની અવકાશી અસર
$C$. ફિનોલિક ગ્રુપની ઇલેક્ટ્રોનિક અસર
$D$. tert-butyl ગ્રુપની ઇલેક્ટ્રોનિક અસર

ફિનોલની સાંદ્ર $HNO_3$ સાથેની પ્રક્રિયા નીચે મુજબ છે:
ફિનોલ $\xrightarrow{Conc. HNO_3}$ નીપજ
મુખ્ય નીપજ કઈ છે?

આપેલ પ્રક્રિયાની મુખ્ય નીપજ શું હશે?

ફિનોલનું ક્રોમિક એસિડ સાથે ઓક્સિડેશન કરવાથી શું મળે છે?

નીચેની પ્રક્રિયાઓમાં $X$ અને $Y$ શું છે?