क्या किसी निकाय को गर्म किया जा सकता है और उसका तापमान स्थिर रह सकता है?

दो समान पात्रों $A$ और $B$ में, जिनमें घर्षण रहित पिस्टन लगे हैं, समान तापमान और समान आयतन $V$ पर एक ही आदर्श गैस भरी है। $A$ में गैस का द्रव्यमान $m_{A}$ है और $B$ में $m_{B}$ है। प्रत्येक सिलेंडर में गैस को अब समतापीय रूप से $2V$ के अंतिम आयतन तक फैलने दिया जाता है। गैसों के दबाव में परिवर्तन क्रमशः $2\Delta P$ और $3\Delta P$ पाया जाता है। तो $m_{A}$ और $m_{B}$ के बीच संबंध क्या है?

एक आदर्श गैस का आयतन $1 \, L$ है और इसका दाब $72 \, cm$ पारे के स्तंभ के बराबर है। गैस को समतापीय रूप से संपीड़ित करके इसका आयतन $900 \, cm^3$ कर दिया जाता है। गैस के दाब में वृद्धि ...... $cm$ (पारा) होगी।

एक आदर्श गैस के $2$ मोल के आयतन को स्थिर तापमान $T$ पर $V$ से $2V$ तक बढ़ाने के लिए किया गया कार्य $W$ है। उसी स्थिर तापमान $T$ पर उसी गैस के $2$ मोल के आयतन को $2V$ से $4V$ तक बढ़ाने के लिए किया जाने वाला कार्य है:

$PV$ आरेख द्वारा दर्शाई गई निम्नलिखित में से किस ऊष्मागतिक प्रक्रिया के दौरान निकाय द्वारा अवशोषित ऊष्मा ऊर्जा $PV$ ग्राफ के अंतर्गत क्षेत्रफल के बराबर हो सकती है?

क्या दो समतापीय वक्र एक-दूसरे को काट सकते हैं?