ત્રણ એરોમેટિક અણુઓ (P, Q અને R) ધ્યાનમાં લો જ | vedclass

Name: Exam Paper Generator | JEE NEET Paper Generator | Vedclass
Brand: Vedclass
Rating: 5 (35 reviews)

Question

(A) આ પ્રક્રિયા ઇલેક્ટ્રોફિલિક એરોમેટિક સબસ્ટિટ્યુશન (ડાયઝો કપલિંગ) છે. પ્રતિક્રિયાશીલતા એરોમેટિક રિંગ પરની ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા દ્વારા નક્કી કરવામાં આવે છ

Vedclass · Accepted Answer

$P > Q > R$

Vedclass · Answer

(A) આ પ્રક્રિયા ઇલેક્ટ્રોફિલિક એરોમેટિક સબસ્ટિટ્યુશન (ડાયઝો કપલિંગ) છે. પ્રતિક્રિયાશીલતા એરોમેટિક રિંગ પરની ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા દ્વારા નક્કી કરવામાં આવે છે, જે $-N(Me)_2$ જેવા ઇલેક્ટ્રોન-ડોનેટિંગ જૂથો દ્વારા વધે છે. $-N(Me)_2$ જૂથના ઓર્થો સ્થાન પર અવકાશી અવરોધ (steric hindrance) ઇલેક્ટ્રોફાઇલના અભિગમને અટકાવીને પ્રતિક્રિયાશીલતામાં નોંધપાત્ર ઘટાડો કરે છે. અણુ $P$ માં કોઈ ઓર્થો સબસ્ટિટ્યુઅન્ટ્સ નથી, અણુ $Q$ માં એક ઓર્થો મિથાઈલ જૂથ છે, અને અણુ $R$ માં બે ઓર્થો મિથાઈલ જૂથો છે. તેથી, અવકાશી અવરોધ $P  Q > R$ ના ક્રમમાં ઘટે છે.

Similar Questions

અંતિમ નીપજ $[B]$ શું છે?

આલ્કાઈલ બેન્ઝીન સલ્ફોનેટ્સનો ઉપયોગ સાબુથી વિપરીત કઠિન પાણીમાં ડિટર્જન્ટ તરીકે થઈ શકે છે,કારણ કે

$CH_3Cl$ $\xrightarrow{KCN}$ $\xrightarrow{+4H} A$ $\xrightarrow{NaNO_2/HCl} \text{Ethyl alcohol} + ?$ પ્રક્રિયા શ્રેણીમાં મુખ્ય અને ગૌણ નીપજ કઈ છે?

નીચેની પ્રક્રિયા માટે મુખ્ય નીપજ $(A)$ નું અનુમાન કરો:

જલીય દ્રાવણમાં $NH_{3}$,$CH_{3}NH_{2}$ અને $(CH_{3})_{2}NH$ બેઝ માટે વધતા બેઝિક સ્વભાવનો સાચો ક્રમ કયો છે?

Vedclass Test Series

Exam Paper Generator

Online Exam Module