$25^{\circ} C$ पर एक दुर्बल अम्ल $(HA, 1 \ M)$ द्वारा मिथाइल एसीटेट $(1 \ M)$ के जल-अपघटन की प्रारंभिक दर,एक प्रबल अम्ल $(HX, 1 \ M)$ की दर की $1/100$ गुनी है। $HA$ का $K_a$ क्या है?

दुर्बल द्वि-प्रोटिक अम्ल $H_2A$ के $0.2 \ M$ विलयन के $20 \ mL$ नमूने को $0.25 \ M \ NaOH$ के साथ अनुमापित किया जाता है। दूसरे तुल्यांक बिंदु पर विलयन की मोलरता क्या है?

$NH_4OH$ के $0.01 \ M$ विलयन के वियोजन की मात्रा $4.2 \times 10^{-2}$ है। $NH_4OH$ का प्रतिशत वियोजन क्या है ($\%$ में)?

निम्नलिखित में से कौन सा कथन सही है?

$20 \ mL$ $0.050 \ M \ HCl$ और $30 \ mL$ $0.10 \ M \ Ba(OH)_2$ के मिश्रण में $[OH^-]$ की सांद्रता क्या होगी ($M$ में)?

विभिन्न जलीय विलयनों की जल के साथ तनुकरण प्रक्रियाएं $LIST-I$ में दी गई हैं। विलयनों के तनुकरण का $[H^{+}]$ पर प्रभाव $LIST-II$ में दिया गया है। (नोट: दुर्बल अम्ल और दुर्बल क्षार के वियोजन की मात्रा $(\alpha)$ $ < <1 $ है; लवण के जल-अपघटन की मात्रा $ < < 1$ है; $[H^{+}]$ का अर्थ $H^{+}$ आयनों की सांद्रता है)

$LIST-I$	$LIST-II$
$P$. ($10 \ mL$ $0.1 \ M$ $NaOH$ + $20 \ mL$ $0.1 \ M$ एसिटिक अम्ल) को $60 \ mL$ तक तनु किया गया	$1$. तनुकरण पर $[H^{+}]$ का मान नहीं बदलता है
$Q$. ($20 \ mL$ $0.1 \ M$ $NaOH$ + $20 \ mL$ $0.1 \ M$ एसिटिक अम्ल) को $80 \ mL$ तक तनु किया गया	$2$. तनुकरण पर $[H^{+}]$ का मान अपने प्रारंभिक मान का आधा हो जाता है
$R$. ($20 \ mL$ $0.1 \ M$ $HCl$ + $20 \ mL$ $0.1 \ M$ अमोनिया विलयन) को $80 \ mL$ तक तनु किया गया	$3$. तनुकरण पर $[H^{+}]$ का मान अपने प्रारंभिक मान का $1/\sqrt{2}$ गुना हो जाता है
$S$. $10 \ mL$ $Ni(OH)_2$ का संतृप्त विलयन जो अतिरिक्त ठोस $Ni(OH)_2$ के साथ साम्यावस्था में है,को $20 \ mL$ तक तनु किया गया (तनुकरण के बाद भी ठोस $Ni(OH)_2$ उपस्थित है)	$4$. तनुकरण पर $[H^{+}]$ का मान अपने प्रारंभिक मान का $\sqrt{2}$ गुना हो जाता है

$LIST-I$ में दी गई प्रत्येक प्रक्रिया का $LIST-II$ में एक या अधिक प्रभाव(ओं) के साथ मिलान करें। सही विकल्प है: