कॉपर की सतह कॉपर ऑक्साइड के बनने के कारण धूमिल हो जाती है। $1250 \ K$ पर कॉपर को गर्म करते समय ऑक्साइड के निर्माण को रोकने के लिए $N_2$ गैस प्रवाहित की गई थी। हालाँकि,$N_2$ गैस में अशुद्धि के रूप में $1 \ \text{mole}\%$ जलवाष्प मौजूद है। जलवाष्प नीचे दी गई अभिक्रिया के अनुसार कॉपर का ऑक्सीकरण करती है:
$2 Cu_{(s)} + H_2O_{(g)} \longrightarrow Cu_2O_{(s)} + H_{2(g)}$
$p_{H_2}$,$1250 \ K$ पर ऑक्सीकरण को रोकने के लिए आवश्यक $H_2$ का न्यूनतम आंशिक दाब ($\text{bar}$ में) है। $\ln(p_{H_2})$ का मान . . . . . है।
(दिया गया है: कुल दाब $= 1 \ \text{bar}$,$R = 8 \ J \ K^{-1} \ mol^{-1}$,$\ln(10) = 2.3$। $Cu_{(s)}$ और $Cu_2O_{(s)}$ परस्पर अमिश्रणीय हैं।
$1250 \ K$ पर: $2 Cu_{(s)} + 1/2 O_{2(g)} \longrightarrow Cu_2O_{(s)}; \Delta G^\theta = -78,000 \ J \ mol^{-1}$
$H_{2(g)} + 1/2 O_{2(g)} \longrightarrow H_2O_{(g)}; \Delta G^\theta = -1,78,000 \ J \ mol^{-1}$)

• A
  $-13.60$
• B
  $-14.50$
• C
  $-14.60$
• D
  $-14.70$