નીચેનામાંથી કઈ જોડીના તત્વોની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી વધુ ઋણ હશે?
$(i)$ $O$ અથવા $F$
$(ii)$ $F$ અથવા $Cl$

તત્વો $A, B, C$ અને $D$ ની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) ના મૂલ્યો અનુક્રમે $-135, -60, -200$ અને $-348 \ kJ \ mol^{-1}$ છે. તત્વ $B$ ની બાહ્યતમ ઇલેક્ટ્રોનિક રચના શું છે?

નીચેનામાંથી કયા પરમાણુમાં ઇલેક્ટ્રોન ઉમેરવો સૌથી મુશ્કેલ છે?

કોલમ-$I$ માં કેટલાંક તત્ત્વોનું ઇલેક્ટ્રોનીય બંધારણ અને કોલમ-$II$ માં ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીનાં મૂલ્યો દર્શાવેલ છે. આ મૂલ્યોની યોગ્ય રીતે સરખામણી કરો. ઇલેક્ટ્રોનીય બંધારણ સાથે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી જોડો.

કોલમ-$I$ ઇલેક્ટ્રોનીય બંધારણ	કોલમ-$II$ ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી / $kJ \ mol^{-1}$
$(A) \ 1s^2 2s^2 2p^6$	$(1) -53$
$(B) \ 1s^2 2s^2 2p^6 3s^1$	$(2) -328$
$(C) \ 1s^2 2s^2 2p^5$	$(3) -141$
$(D) \ 1s^2 2s^2 2p^4$	$(4) +53$

$X_{(g)} + e^- \to X^-_{(g)}$ પ્રક્રિયા માટે મુક્ત થતી ઊર્જાનું પ્રમાણ અનુક્રમે ન્યૂનતમ અને મહત્તમ કોના માટે છે :-
$(a) \ F$
$(b) \ Cl$
$(c) \ N$
$(d) \ B$
સાચો જવાબ છે :-

ઇલેક્ટ્રોન બંધુતા એટલે શું?