આયનીકરણ એન્થાલ્પીના સંદર્ભમાં નીચેનામાંથી કયું વિધાન ખોટું છે?

  • A
    દરેક ક્રમિક ઇલેક્ટ્રોન માટે આયનીકરણ એન્થાલ્પી વધે છે.
  • B
    આયનીકરણ એન્થાલ્પીમાં સૌથી મોટો વધારો નિષ્ક્રિય વાયુની કોર ઇલેક્ટ્રોન રચનામાંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવા પર જોવા મળે છે.
  • C
    સંયોજકતા ઇલેક્ટ્રોનનો અંત આયનીકરણ એન્થાલ્પીમાં મોટા ઉછાળા દ્વારા દર્શાવવામાં આવે છે.
  • D
    નીચા $n$ મૂલ્ય ધરાવતી કક્ષકોમાંથી ઇલેક્ટ્રોન દૂર કરવા એ ઉચ્ચ $n$ મૂલ્ય ધરાવતી કક્ષક કરતા સરળ છે.

Explore More

Similar Questions

એક તત્વની પ્રથમ ચાર આયનીકરણ ઉર્જાના મૂલ્યો $191$,$578$,$872$ અને $5962 \ kcal$ છે. તત્વમાં સંયોજકતા ઇલેક્ટ્રોનની સંખ્યા કેટલી છે?

$Mg$ માટે $\Delta_iH_1$ અને $\Delta_iH_2$ ના મૂલ્યો અનુક્રમે $178 \, kcal \, mol^{-1}$ અને $348 \, kcal \, mol^{-1}$ છે. તો $Mg \to Mg^{2+} + 2e^-$ પ્રક્રિયા માટે એન્થાલ્પી ફેરફાર ............. $kcal \, mol^{-1}$ જણાવો.

List-$I$ ને List-$II$ સાથે જોડો:
List-$I$ (ઇલેક્ટ્રોનિક રચના)List-$II$ ($\Delta_{i}H$ in $kJ\ mol^{-1}$)
$(a)$ $1s^{2} 2s^{2}$$(i)$ $801$
$(b)$ $1s^{2} 2s^{2} 2p^{4}$$(ii)$ $899$
$(c)$ $1s^{2} 2s^{2} 2p^{3}$$(iii)$ $1314$
$(d)$ $1s^{2} 2s^{2} 2p^{1}$$(iv)$ $1402$

નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી યોગ્ય જવાબ પસંદ કરો:

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે $:$
વિધાન $(I) :$ સમૂહ $14$ ના તત્વોની પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી સમૂહ $13$ ના અનુરૂપ તત્વો કરતા વધારે હોય છે.
વિધાન $(II) :$ સમૂહ $13$ ના તત્વોના ગલનબિંદુ અને ઉત્કલનબિંદુ સામાન્ય રીતે સમૂહ $14$ ના અનુરૂપ તત્વો કરતા ઘણા વધારે હોય છે.
ઉપરના વિધાનોના પ્રકાશમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી યોગ્ય જવાબ પસંદ કરો $:$

ફોટોઈલેક્ટ્રિક અસરમાં,જો $Li$,$Na$ અને $Rb$ ના વર્ક ફંક્શન અનુક્રમે $2.41 \ eV$,$2.30 \ eV$ અને $2.09 \ eV$ હોય,તો $K$ નું વર્ક ફંક્શન આશરે કેટલા $eV$ હોઈ શકે?

Vedclass Products

For Students

Vedclass Test Series

Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.

Start Free Trial
For Teachers

Exam Paper Generator

Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.

Try Free
For Institutes

Online Exam Module

Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.

See Demo