તત્વ '$B$' એ $ccp$ રચના બનાવે છે અને '$A$' એ અષ્ટફલકીય છિદ્રોના અડધા ભાગને રોકે છે,જ્યારે ઓક્સિજન પરમાણુઓ તમામ ચતુષ્ફલકીય છિદ્રોને રોકે છે. દ્વિ-ધાતુ ઓક્સાઇડનું બંધારણ શું છે?

$A$ અને $B$ ના મિશ્ર ઓક્સાઇડમાં,$A$ બધા જ અષ્ટફલકીય છિદ્રો રોકે છે જ્યારે $B$ એ ચતુષ્ફલકીય છિદ્રોના $(2/3)$ ભાગને રોકે છે. આ ઓક્સાઇડનું આણ્વીય સૂત્ર શું છે?

$A$ અને $B$ પરમાણુઓના બનેલા એક સંયોજનમાં $A$ પરમાણુઓ $fcc$ લેટિસ બનાવે છે,જ્યારે $B$ પરમાણુઓ ચતુષ્ફલકીય છિદ્રોનો $25\%$ ભાગ અને અષ્ટફલકીય છિદ્રોનો $50\%$ ભાગ રોકે છે. જો સ્ફટિકને એવી રીતે કાપવામાં આવે કે જેથી એક અક્ષ પરના બધા ફલક-કેન્દ્રિત પરમાણુઓ દૂર થાય,તો પરિણામી ઘનનું અણુસૂત્ર ........... થશે.

$bcc$ ગોઠવણીમાં રોકાયેલ જગ્યા કેટલા ટકા છે ($\%$ માં)?

એક સંયોજનમાં,$Y$ તત્વના પરમાણુઓ $ccp$ લેટીસ બનાવે છે અને $X$ તત્વના પરમાણુઓ ટેટ્રાહેડ્રલ વોઇડ્સના $2/3$ ભાગ રોકે છે. તો સંયોજનનું અણુસૂત્ર શું હશે?

$hcp$ અને $ccp$ રચનાઓમાં ખાલી જગ્યા (void space) ની ટકાવારી કેટલી છે ($\%$ માં)?