रिक्त स्थान भरें:
$1.$ चक्रीय प्रक्रिया में आंतरिक ऊर्जा में परिवर्तन ...... होता है।
$2.$ गैस की आंतरिक ऊर्जा ...... द्वारा बढ़ाई जाती है।
$3.$ $T_1$ तापमान पर एक आदर्श गैस को उसके मूल आयतन के $1/32$ भाग तक संपीड़ित किया जाता है,तो उसका तापमान $T_2$ ...... होगा। $(\gamma = 1.4)$
$4.$ जल का त्रिक बिंदु ...... दाब और ...... तापमान पर होता है।

सूची-$I$ का सूची-$II$ से मिलान करें।

$A$. समदाबी (Isobaric)	$I$. $\Delta Q = \Delta W$
$B$. समआयतनिक (Isochoric)	$II$. $\Delta Q = \Delta U$
$C$. रुद्धोष्म (Adiabatic)	$III$. $\Delta Q = 0$
$D$. समतापीय (Isothermal)	$IV$. $\Delta Q = \Delta U + P \Delta V$

$\Delta Q = \text{दी गई ऊष्मा}$,$\Delta W = \text{निकाय द्वारा किया गया कार्य}$,$\Delta U = \text{आंतरिक ऊर्जा में परिवर्तन}$,$P = \text{निकाय का दाब}$,$\Delta V = \text{निकाय के आयतन में परिवर्तन}$. नीचे दिए गए विकल्पों में से सही उत्तर चुनें:

यदि ${C_V} = 4.96 \text{ cal/mole K}$ है,तो इस गैस के $2 \text{ moles}$ का तापमान $340 \text{ K}$ से $342 \text{ K}$ तक बढ़ाने पर आंतरिक ऊर्जा में हुई वृद्धि ....... $\text{cal}$ है।

निम्नलिखित सूचियों का मिलान करें।

सूची-$I$	सूची-$II$
$A$. ऊष्मागतिकी का शून्यवाँ नियम	$I$. ऊष्मा के प्रवाह की दिशा
$B$. ऊष्मागतिकी का प्रथम नियम	$II$. किया गया कार्य शून्य है
$C$. गैस का मुक्त प्रसार	$III$. तापीय साम्यावस्था
$D$. ऊष्मागतिकी का द्वितीय नियम	$IV$. ऊर्जा संरक्षण का नियम

सही उत्तर है:

स्तंभ-$I$ में प्रक्रियाएं और स्तंभ-$II$ में ऊष्मागतिकी का प्रथम नियम दिया गया है। उन्हें उचित रूप से सुमेलित करें:

स्तंभ-$I$	स्तंभ-$II$
$(a)$ रुद्धोष्म (Adiabatic)	$(i)$ $\Delta Q = \Delta U$
$(b)$ समतापी (Isothermal)	$(ii)$ $\Delta Q = \Delta W$
	$(iii)$ $\Delta U = -\Delta W$

द्रव्यमान $m$ का एक छोटा कण एक भारी, खोखली और सीधी नली के अंदर नली की अक्ष के अनुदिश गति करता है और दोनों सिरों पर प्रत्यास्थ टक्कर करता है। नली में कोई घर्षण नहीं है और यह एक सिरे पर एक समतल सतह द्वारा बंद है जबकि दूसरा सिरा एक भारी चल समतल पिस्टन के साथ फिट है जैसा कि चित्र में दिखाया गया है। जब बंद सिरे से पिस्टन की दूरी $L = L_0$ है, तो कण की गति $v = v_0$ है। पिस्टन को बहुत कम गति $V$ से अंदर की ओर ले जाया जाता है जैसे कि $V \ll \frac{dL}{L} v_0$, जहाँ $dL$ पिस्टन का अत्यंत छोटा विस्थापन है। निम्नलिखित में से कौन सा/से कथन सही है/हैं?
$(1)$ जिस दर पर कण पिस्टन से टकराता है वह $v / (2L)$ है
$(2)$ पिस्टन के साथ प्रत्येक टक्कर के बाद, कण की गति $2V$ बढ़ जाती है
$(3)$ जब पिस्टन को $L_0$ से $L_0 / 2$ तक अंदर की ओर ले जाया जाता है तो कण की गतिज ऊर्जा $4$ के गुणक से बढ़ जाती है
$(4)$ यदि पिस्टन $dL$ अंदर की ओर बढ़ता है, तो कण की गति $v \frac{dL}{L}$ बढ़ जाती है