दी गई आकृति एक निश्चित धातु के लिए प्रकाश-विद्युत प्रभाव प्रयोग में कुछ डेटा बिंदुओं को दर्शाती है। इसकी सतह से इलेक्ट्रॉन के उत्सर्जन के लिए न्यूनतम ऊर्जा $....... eV$ है। (प्लांक नियतांक $h = 6.62 \times 10^{-34} \, J \cdot s$)

फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा आपतित विकिरण की आवृत्ति पर कैसे निर्भर करती है? यह किन कारकों पर निर्भर नहीं करती है?

जब आपतित फोटॉन की तरंगदैर्घ्य कम की जाती है, तो:

प्रकाश का एक बिंदु स्रोत $4.8 eV$ ऊर्जा वाले फोटॉनों का उत्सर्जन $10^5$ फोटॉन प्रति सेकंड की दर से करता है। ये फोटॉन $2.8 eV$ कार्य फलन और $9 mm$ त्रिज्या वाले एक प्रकाश-संवेदी गोले पर आपतित होते हैं। गोला प्रारंभ में उदासीन है और उत्सर्जित फोटो-इलेक्ट्रॉनों को तुरंत हटा दिया जाता है। वह समय जिसके बाद फोटो-इलेक्ट्रिक उत्सर्जन रुक जाएगा,है ($s$ में)

जब $\lambda_1$ और $\lambda_2$ तरंगदैर्ध्य का प्रकाश एक धात्विक सतह पर आपतित होता है,तो उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा $K_1$ और $K_2$ है। यदि $\lambda_1 = 3 \lambda_2$ है,तो:

जब $v_{1}$ आवृत्ति का प्रकाश $W$ कार्य फलन (work function) वाली धातु पर आपतित होता है (जहाँ $h v_{1} > W$), तो फोटोकरंट $V_{1}$ के निरोधी विभव (stopping potential) पर शून्य हो जाता है। यदि प्रकाश की आवृत्ति को बढ़ाकर $v_{2}$ कर दिया जाए, तो निरोधी विभव बदलकर $V_{2}$ हो जाता है। अतः, इलेक्ट्रॉन का आवेश $e$ किसके द्वारा दिया जाता है?