નીચે આપેલ આયનીકરણ ઉર્જાના મૂલ્યોનો ઉપયોગ કરીને તત્વો $X$ અને $Y$ ને ઓળખો :

તત્વ	પ્રથમ આયનીકરણ ઉર્જા $(kJ/mol)$	દ્વિતીય આયનીકરણ ઉર્જા $(kJ/mol)$
$X$	$495$	$4563$
$Y$	$731$	$1450$

નીચેનામાંથી કઈ ઇલેક્ટ્રોન રચનામાં ઇલેક્ટ્રોનને દૂર કરવા માટે સૌથી વધુ ઉર્જાનું શોષણ થશે?

નીચેનામાંથી કઈ પ્રક્રિયા બિન-સ્વયંભૂ (non-spontaneous) છે?

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે: એકને વિધાન $A$ તરીકે અને બીજાને કારણ $R$ તરીકે લેબલ કરવામાં આવ્યું છે:
વિધાન $A:$ આવર્તમાં પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી ઘટે છે.
કારણ $R:$ આવર્તમાં વધતો પરમાણ્વીય ભાર શીલ્ડિંગ અસર કરતાં વધી જાય છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના પ્રકાશમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી યોગ્ય વિકલ્પ પસંદ કરો:

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે:
વિધાન $I$: $B$, $Al$ અને $Ga$ ની બીજી આયનીકરણ એન્થાલ્પીનો ક્રમ $B > Al > Ga$ છે.
વિધાન $II$: પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પીના સંદર્ભમાં સાચો ક્રમ $Si < Ge < Pb < Sn$ છે.

એક તત્વ માટે,વિવિધ ક્રમિક આયનીકરણ એન્થાલ્પીઓ (in $kJ \cdot mol^{-1}$) નીચે મુજબ આપવામાં આવી છે:

$I.E.$	$1^{st}$	$2^{nd}$	$3^{rd}$	$4^{th}$	$5^{th}$
મૂલ્ય	$577.5$	$1810$	$2750$	$11580$	$14820$

આ તત્વ કયું છે?