જો એમ્પ્લિટ્યુડ મોડ્યુલેટેડ તરંગનો મહત્તમ અને ન્યૂનતમ વોલ્ટેજ અનુક્રમે $V_{max}$ અને $V_{min}$ હોય,તો મોડ્યુલેશન ફેક્ટર શું છે?

નીચેની પ્રક્રિયામાં $X$ શું છે?
$2 CH_3COCH_3 \stackrel{Ba(OH)_2}{\longrightarrow} X$

ઇથાઇલ ક્લોરાઇડ સોડિયમ ઇથોક્સાઇડ સાથે પ્રક્રિયા કરીને સંયોજન $A$ બનાવે છે. નીચેનામાંથી કઈ પ્રક્રિયા પણ $A$ આપે છે?

$0.02\, kg$ દળની એક ગોળી $250\, ms^{-1}$ ના વેગથી સમક્ષિતિજ દિશામાં ગતિ કરતી વખતે $0.23\, kg$ દળના લાકડાના બ્લોક સાથે અથડાય છે,જે ખરબચડી સમક્ષિતિજ સપાટી પર સ્થિર છે. અથડામણ પછી,બ્લોક અને ગોળી સાથે મળીને ગતિ કરે છે અને $40\, m$ અંતર કાપ્યા પછી સ્થિર થઈ જાય છે. ખરબચડી સપાટીનો સરકતો ઘર્ષણાંક શોધો $(g = 9.8\, ms^{-2})$

એક થર્મોડાયનેમિક સિસ્ટમને આકૃતિમાં દર્શાવ્યા મુજબ $PQRS P$ ચક્ર પ્રક્રિયામાંથી પસાર કરવામાં આવે છે. સિસ્ટમ દ્વારા કરવામાં આવેલ કુલ કાર્ય ......... $J$ છે.

એક અણુ $(X)$ પાસે $(i)$ $sp^2$ અને $s$ કક્ષકોના અતિવ્યાપનથી બનેલા ચાર સિગ્મા બંધ,$(ii)$ $sp^2$ અને $sp^2$ કક્ષકોના અતિવ્યાપનથી બનેલો એક સિગ્મા બંધ અને $(iii)$ $p_z$ અને $p_z$ કક્ષકોના અતિવ્યાપનથી બનેલો એક $\pi$ બંધ છે. નીચેનામાંથી કયો અણુ $(X)$ છે?