વિવિધ પ્રકારના હાફ સેલના $(\frac{\partial E}{\partial T})_P$ નીચે મુજબ છે:

$A$	$B$	$C$	$D$
$1 \times 10^{-4}$	$2 \times 10^{-4}$	$0.1 \times 10^{-4}$	$0.2 \times 10^{-4}$

(જ્યાં $E$ એ ઇલેક્ટ્રોમોટિવ ફોર્સ છે)
ઉપરોક્તમાંથી કયા હાફ સેલનો ઉપયોગ સંદર્ભ ઇલેક્ટ્રોડ તરીકે કરવો વધુ પસંદ કરવામાં આવશે?

$CuSO_4$ નું જલીય દ્રાવણ કયા ધાતુના પાત્રમાં સંગ્રહિત કરી શકાય છે?
$E^0_{Cu^{2+}/Cu} = 0.34 \ V$,$E^0_{Fe/Fe^{2+}} = 0.44 \ V$,$E^0_{Al/Al^{3+}} = 1.66 \ V$,$E^0_{Ni/Ni^{2+}} = 0.25 \ V$,$E^0_{Ag^{+}/Ag} = 0.80 \ V$

શું કોઈ ઇલેક્ટ્રોડનો નિરપેક્ષ ઇલેક્ટ્રોડ પોટેન્શિયલ માપી શકાય છે?

$25^\circ C$ તાપમાને $Li^{+}|Li$,$Ba^{2+}|Ba$,$Na^{+}|Na$,અને $Mg^{2+}|Mg$ ના પ્રમાણિત રિડક્શન પોટેન્શિયલ અનુક્રમે $-3.05 \ V$,$-2.90 \ V$,$-2.71 \ V$,અને $-2.37 \ V$ છે. નીચેનામાંથી કયું સૌથી પ્રબળ ઓક્સિડેશનકર્તા છે?

જ્યારે નીચેની ધાતુને મંદ $HCl$ માં ઉમેરવામાં આવે ત્યારે હાઇડ્રોજન વાયુ મુક્ત થતો નથી.

અર્ધ-પ્રક્રિયાઓના પ્રમાણિત રિડક્શન પોટેન્શિયલ નીચે મુજબ આપેલા છે:
$F_{2(g)} + 2e^- \rightarrow 2F^-_{(aq)}$; $E^o = +2.85 \ V$
$Cl_{2(g)} + 2e^- \rightarrow 2Cl^-_{(aq)}$; $E^o = +1.36 \ V$
$Br_{2(l)} + 2e^- \rightarrow 2Br^-_{(aq)}$; $E^o = +1.06 \ V$
$I_{2(s)} + 2e^- \rightarrow 2I^-_{(aq)}$; $E^o = +0.53 \ V$
સૌથી પ્રબળ ઓક્સિડેશનકર્તા અને રિડક્શનકર્તા પદાર્થો અનુક્રમે કયા છે?