$pH$ ના સંદર્ભમાં હાઇડ્રોજન ઇલેક્ટ્રોડનો $EMF$ ($1 \ atm$ દબાણે) શું છે?

$Na$ (વર્ક ફંક્શન,$w_{0}=2.3 \ eV$) માંથી ફોટોઈલેક્ટ્રિક પ્રવાહને નીચેના કોષના આઉટપુટ વોલ્ટેજ દ્વારા અટકાવવામાં આવે છે:
$Pt_{(s)} | H_{2}(g, 1 \ bar) | HCl(aq, pH=1) | AgCl_{(s)} | Ag_{(s)}$
$K$ $(w_{0}=2.25 \ eV)$ માંથી ફોટોઈલેક્ટ્રિક પ્રવાહને અટકાવવા માટે જરૂરી જલીય $HCl$ નો $pH$,અન્ય તમામ પરિસ્થિતિઓ સમાન રહેતા,..........$\times 10^{-2}$ (નજીકના પૂર્ણાંકમાં) છે.
આપેલ છે,$2.303 \frac{RT}{F}=0.06 \ V; E_{AgCl|Ag|Cl^{-}}^{0}=0.22 \ V$

$25^{\circ} C$ તાપમાને નીચેના કોષ માટે $E_{cell}$ ગણવા માટે નીચેનામાંથી કયું સમીકરણ વપરાય છે?
$Pb_{(s)} | Pb^{2+}_{(1 \ M)} || Ag^{+}_{(10 \ M)} | Ag_{(s)}$

$298 \, K$ તાપમાને,$pH = 10$ ધરાવતા $HCl$ ના દ્રાવણમાં પ્લેટિનમનો તાર ડુબાડીને અને $1 \, atm$ દબાણે પ્લેટિનમ તારની આસપાસ હાઇડ્રોજન વાયુ પસાર કરીને હાઇડ્રોજન ગેસ ઇલેક્ટ્રોડ બનાવવામાં આવે છે. ઇલેક્ટ્રોડનો પોટેન્શિયલ ......... $V$ હશે.

$25^{\circ} C$ તાપમાને જ્યારે દ્રાવણમાં $[Cu^{2+}]=0.01 \ M$ હોય ત્યારે કોપર ઇલેક્ટ્રોડનો રિડક્શન પોટેન્શિયલ (વોલ્ટમાં) કેટલો હશે? $(Cu^{2+}/Cu$ ઇલેક્ટ્રોડનો $E^{\circ} = +0.34 \ V$ છે$)$

$HCl$ ઇલેક્ટ્રોલાઇટમાં પ્લેટિનમ બ્લેક ઇલેક્ટ્રોડ દ્વારા ઉદ્દીપિત એકલ ઇલેક્ટ્રોડ પ્રક્રિયા $2H^{+} + 2e^{-} \rightleftharpoons H_2$ ધ્યાનમાં લો. ઇલેક્ટ્રોડનો પોટેન્શિયલ $-0.059 \ V$ છે. જો $H_2$ નું દબાણ $1 \ bar$ હોય,તો હાઇડ્રોજન હાફ-સેલમાં એસિડની સાંદ્રતા કેટલી હશે ($M$ માં)?