निम्नलिखित में से किसका इलेक्ट्रोड विभव (electrode potential) सबसे अधिक है?

अर्ध-अभिक्रियाओं के लिए मानक अपचयन विभव $E^{\circ}$ इस प्रकार हैं:

$Zn \rightarrow Zn^{2+} + 2e^-$	$E^{\circ} = +0.76 \ V$
$Fe \rightarrow Fe^{2+} + 2e^-$	$E^{\circ} = +0.41 \ V$

सेल अभिक्रिया $Fe^{2+} + Zn \rightarrow Zn^{2+} + Fe$ के लिए $EMF$ क्या होगा?

जब धातु $A$ की एक छड़ को धातु $B$ के जलीय विलयन ($B^{2+}$ आयन की सांद्रता $1 \ M$ है) में $25 \ ^oC$ पर डुबोया जाता है,तो मानक इलेक्ट्रोड विभव $E^o_{A^{2+}/A} = -0.76 \ V$ और $E^o_{B^{2+}/B} = +0.34 \ V$ हैं। क्या होगा?

गैल्वेनिक सेल $Zn_{(s)} | Zn^{2+}_{(aq)} || Ag^{+}_{(aq)} | Ag_{(s)}$ के लिए मानक सेल विभव की गणना करें,यदि $E^o_{Zn^{2+}/Zn} = -0.76 \ V$ और $E^o_{Ag^{+}/Ag} = +0.80 \ V$ दिया गया है। ($V$ में)

द्रव-ठोस इंटरफ़ेस वाली प्रणालियों पर विचार करें,$(A)$ सिल्वर नाइट्रेट के घोल में तांबे का तार और $(B)$ कॉपर सल्फेट के घोल में चांदी का तार। यदि $E_{Cu^{2+}/Cu}^{\circ} = 0.34 \ V$ और $E_{Ag^{+}/Ag}^{\circ} = 0.80 \ V$ है,तो अनुमान लगाएं कि कौन सा इंटरफ़ेस स्वतःस्फूर्त प्रतिक्रिया दिखाएगा?

$1\,M\,CuSO_4$ के विलयन में कॉपर की छड़ और $1\,M\,NiSO_4$ के विलयन में निकल की छड़ डुबोकर एक सेल बनाया जाता है। कॉपर और निकल के मानक अपचयन विभव (standard reduction potentials) क्रमशः $+0.34\,V$ और $-0.25\,V$ हैं। सेल के $EMF$ की गणना कीजिए। ($,V$ में)