$hcp$ और $ccp$ संरचनाओं में रिक्त स्थान (void space) का प्रतिशत कितना है ($\%$ में)?

$A$ और $B$ के एक मिश्रित ऑक्साइड में,$A$ सभी अष्टफलकीय रिक्तियों को घेरता है जबकि $B$ चतुष्फलकीय रिक्तियों के $(2/3)$ भाग को घेरता है। इस ऑक्साइड का आणविक सूत्र क्या है?

एक फेस-सेंटर्ड क्यूबिक $(FCC)$ यूनिट सेल में,परमाणुओं द्वारा घेरा गया कुल आयतन क्या है?

$hcp$ और $ccp$ संरचनाओं में संकुलन क्षमता की गणना आरेख बनाकर समझाइए।

इनवर्स स्पिनल यौगिकों में अधिकृत रिक्तियों (voids) का अंश क्या है?

$ccp$ व्यवस्था में,गोलों द्वारा घेरे गए स्थान का प्रतिशत ........ ( $\%$ में) है।