ઓક્સિજન પરમાણુમાંથી ઓક્સાઇડ આયન,$O^{2-}_{(g)}$ ની રચના માટે નીચે દર્શાવ્યા મુજબ પ્રથમ ઉષ્માક્ષેપક અને ત્યારબાદ ઉષ્માશોષક તબક્કાની જરૂર પડે છે:
$O_{(g)} + e^- \to O^{-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^- \to O^{2-}_{(g)} ; \Delta_f H^o = +780 \ kJ \ mol^{-1}$
આમ,વાયુ અવસ્થામાં $O^{2-}$ બનવાની પ્રક્રિયા પ્રતિકૂળ છે,ભલે $O^{2-}$ એ નિયોન સાથે આઇસોઇલેક્ટ્રોનિક હોય. આનું કારણ એ છે કે,

  • A
    $O^{-}$ આયનનું કદ ઓક્સિજન પરમાણુ કરતા પ્રમાણમાં નાનું હોય છે
  • B
    ઓક્સિજન વધુ વિદ્યુતઋણ છે
  • C
    ઓક્સિજનમાં ઇલેક્ટ્રોન ઉમેરવાથી આયનનું કદ મોટું થાય છે
  • D
    ઇલેક્ટ્રોન વચ્ચેનું અપાકર્ષણ એ ઉમદા વાયુ જેવી રચના પ્રાપ્ત કરવાથી મળતી સ્થિરતા કરતા વધારે હોય છે.

Explore More

Similar Questions

$Cl_{(g)}$ ની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી $\Delta_{eg}H$ $-349 \ kJ \ mol^{-1}$ છે. જો $Cl_{(g)}$ ની ધરા-સ્થિતિ ઉર્જા $x \ kJ \ mol^{-1}$ હોય,તો $Cl^{-}_{(g)}$ ની ધરા-સ્થિતિ ઉર્જા ($kJ \ mol^{-1}$ માં) કેટલી થાય?

નીચેનામાંથી કઈ જોડીના તત્વોની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી વધુ ઋણ હશે?
$(i)$ $O$ અથવા $F$
$(ii)$ $F$ અથવા $Cl$

હેલોજન માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) ના મૂલ્યો નીચે મુજબનો ક્રમ દર્શાવે છે:

$C$,$Si$,અને $Ge$ માટે ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીનો સાચો ક્રમ કયો છે?

આપેલા તત્વોની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીનો સાચો ક્રમ કયો છે?

Vedclass Products

For Students

Vedclass Test Series

Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.

Start Free Trial
For Teachers

Exam Paper Generator

Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.

Try Free
For Institutes

Online Exam Module

Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.

See Demo